Japonya'nın önde gelen yarı iletken üreticisi Rapidus, geliştirdiği 2 nanometrelik üretim süreciyle teknoloji dünyasında dikkatleri üzerine çekiyor. İlk kez paylaşılan bilgilere göre, '2HP' olarak adlandırılan bu yeni sürecin mantıksal yoğunluğu, sektörün liderlerinden TSMC'nin N2 süreciyle rekabet edebilecek düzeyde. Dahası, Intel'in 18A sürecini de önemli bir farkla geride bırakması bekleniyor.
Son aylarda büyük ilgi gören Rapidus, Japonya'nın yarı iletken alanındaki öncü firmalarından biri. Hatta NVIDIA gibi dev şirketlerin de firmayla ilgilendiği biliniyor. Rapidus'un üzerinde çalıştığı 2nm süreci '2HP', paylaşılan bilgilere göre TSMC'nin N2 süreciyle benzer mantıksal yoğunluklara sahip olacak. Daha da önemlisi, Intel'in 18A sürecine kıyasla belirgin bir üstünlük sergilemesi öngörülüyor. Bu durum, Rapidus'un yarı iletken pazarında güçlü bir oyuncu olarak konumlanma potansiyelini ortaya koyuyor.
Rapidus 2HP'nin mantıksal yoğunluğunun milimetrekare başına 237.31 Megatransistör (MTr/mm²) olduğu belirtiliyor. Bu rakam, TSMC'nin N2 süreci için iddia edilen 236.17 MTr/mm²'ye oldukça yakın. Paylaşılan bu bilgilerin yanı sıra, bu yoğunluğa ulaşmada kullanılan hücre kütüphaneleri de detaylandırılmış. Yüksek yoğunluklu (HD) bir kütüphane ve 138 birim hücre yüksekliği kullanıldığı görülüyor. Hem N2 hem de 2HP'nin bu denli benzer rakamlara sahip olması, her iki sürecin de maksimum mantıksal yoğunluğu hedefleyen HD tarzı hücreler kullandığını gösteriyor. Bu da nihai ürünlerde benzer transistör sayılarının elde edilebileceği anlamına geliyor.
Intel'in daha düşük nanometre boyutuna sahip olmasına rağmen, firmanın 18A sürecinin milimetrekare başına 184.21 MTr/mm² olduğu tahmin ediliyor. Bu durumun temel nedeni, kıyaslama için HD kütüphanelerinin kullanılması olabilir. Ancak burada dikkat çeken bir diğer faktör ise, Intel'in BSPDN (arka yüz güç dağıtımı) kullanması nedeniyle ön yüz metal katmanlarının bir kısmını kullanıyor olması. Bu durum, HD kütüphanesi ölçümünde yoğunluk verilerinde bir düşüşe yol açıyor. Intel'in önceliğinin performans/watt metrikleri olduğu düşünülürse, daha yüksek yoğunluk firmanın temel hedefi olmayabilir. Özellikle 18A sürecinin öncelikli olarak şirket içi kullanıma yönelik olduğu biliniyor.
Rapidus'un 2HP süreci için açıkladığı yoğunluk verileri, firmanın yarı iletken endüstrisinde önemli adımlar attığının açık bir göstergesi. Daha da önemlisi, Japon firması, sınırlı üretim hacimlerine yönelik ayarlamalar yapmaya odaklanan ve daha iyi sonuçlar için iyileştirmeleri ölçeklendiren benzersiz bir uygulama olan tek yüzeyli ön uç işlemeyi benimsemiş durumda. Firmanın 2 nanometrelik PDK'sı (Üretim Tasarım Kiti) 2026 yılının ilk çeyreğinde müşterilere sunulacak ve ilk bilgilere göre bu süreç oldukça umut vaat ediyor.
