Teknoloji dünyasında heyecan verici bir gelişme yaşanıyor. ASML, Intel'in en ileri teknoloji ürünü 18A üretim süreciyle geliştirdiği Panther Lake işlemcileri için kendi Yüksek Sayısal Açıklıklı (High NA) EUV teknolojisini kullandığını doğruladı.
ASML'in Yüksek Sayısal Açıklıklı EUV Teknolojisi, Intel'in "18A" Panther Lake Çipleriyle Yüksek Hacimli Mantık Üretimine Giriyor
ASML, ilk Yüksek Sayısal Açıklıklı EUV "EXE" ekipmanının Intel'in üretim tesislerine kurulduğunu ve ilk Panther Lake 18A ürünlerinin üretiminde kullanıldığını duyurdu. Bu Yüksek Sayısal Açıklıklı EUV litografi makinelerinin ilki, 2024 yılında Oregon'daki Ar-Ge merkezine yerleştirildi. Bu gelişme ile Intel, ikinci nesil TWINSCAN EXE:5200B'yi kuran ve kabul testlerini başarıyla tamamlayan ilk şirket oldu.
Yüksek Sayısal Açıklıklı EUV işlemcileri halihazırda yüksek hacimli üretim aşamasında bulunuyor. 18A sürecinin belirli katmanları, artık Oregon'daki üretimde Yüksek Sayısal Açıklıklı EUV ile çift kalifikasyondan geçirilmiş durumda. ASML'in EXE makinelerinin yüksek hacimli üretim kapasitesinin, NXE platformunun verimliliğiyle eşdeğer olduğu belirtiliyor.
Intel'e göre, Yüksek Sayısal Açıklıklı EUV teknolojisi, Panther Lake kod adlı Intel Core Ultra Serisi 3 işlemcilerinin bir alt kümesine uygulanıyor. ASML bu gelişmeyi Yüksek Sayısal Açıklıklı EUV üzerinde üretilen ilk "yüksek hacimli mantık ürünü" olarak nitelendiriyor ve bu durumun teknolojinin daha da yaygınlaşması için zemin hazırlaması bekleniyor.
Bu gelişmenin en önemli sonucu, Intel'in Yüksek Sayısal Açıklıklı EUV ile yüksek hacimli üretime geçen ilk firma olmasıdır. Rakip firmaların ise bu teknolojiyi 2029 civarında kullanmayı planladığı ifade ediliyor. Kristalize Fouquet, ileri çip üretiminde hassas desenleme yeteneği sunan bu teknolojinin, yapay zeka ve diğer gelişmekte olan teknolojileri daha da hızlandıracağını belirtti.
Ayrıca, Yüksek Sayısal Açıklıklı EUV teknolojisinin kullanımı, müşteri gereksinimlerine dayalı olarak gelecekteki üretim süreçlerinde de bu teknolojinin yolunu açıyor.
