Intel'in eski CEO'su Pat Gelsinger'ın teknoloji dünyasına geri döndüğü ve kurduğu çip firması xLight'ın ABD hükümetinden önemli bir destek aldığı duyuruldu. Bu destek, özellikle Avrupa'da kullanılan EUV (Extreme Ultraviolet) litografi teknolojisinin geliştirilmesine odaklanıyor.
xLight, EUV Araçları İçin Daha Verimli Bir Işık Kaynağı Sunmayı Hedefliyor
Son yıllarda çip endüstrisine olan ilgi, hükümetlerin stratejik öncelikleri arasına girmesiyle birlikte büyük bir ivme kazandı. ABD hükümeti, yarı iletken üretimini güçlendirmek amacıyla hem yerli hem de yabancı firmalara büyük yatırımlar yaparken, şimdi de domestic çip üretimini destekleyebilecek startup'lara yöneliyor. Bu kapsamda, xLight firması, CHIPS Yasası kapsamında federal teşviklerle 150 milyon dolarlık bir destek aldı.
EUV litografi, modern çip üretiminde kritik bir role sahip ve xLight, bu alanda yeni ışık kaynakları geliştirmeyi planlıyor. Firma, geleneksel yöntemlerden farklı olarak, serbest elektron lazer (FEL) teknolojisini kullanarak parçacık hızlandırıcılar aracılığıyla yüksek enerjili elektron demetleri üreterek EUV fotonları elde etmeyi amaçlıyor. Bu yöntemin, Lazer Üretimli Plazma (LPP) gibi mevcut teknolojilere göre daha verimli olduğu iddia ediliyor. ABD merkezli bir startup'ın bu kadar hassas ve kritik bir alanda faaliyet göstermesi, dikkat çekici bir gelişme.
Litografi alanında uzmanlaşmış firma sayısı oldukça az olduğu için, bu alanda ortaya çıkan her startup endüstrinin ilgisini çekiyor. Benzer bir şekilde, daha kısa dalga boylu X-ışınları kullanarak çip desenlemesi yapacağını iddia eden ve önemli yatırımcı desteği alan Substrate gibi firmalar da bu alandaki yenilikçi yaklaşımları temsil ediyor. xLight ise Albany Nanotech Complex ortaklarından aldığı destekle FEL tabanlı ortamlarda çalışmalara başlayacak.
Ancak, xLight'ın önünde bazı zorluklar da bulunuyor. FEL kaynakları geliştirilse bile, bu teknolojinin ASML'in mevcut ürünleriyle entegrasyonu hem maliyetli hem de karmaşık bir süreç olabilir. Ayrıca, Hollandalı çip üreticisinin bu yeni teknolojiye ne kadar açık olacağı da belirsizliğini koruyor. FEL kaynaklarının araştırma düzeyinde performans sunduğu bilinse de, yüksek hacimli üretimdeki yetenekleri henüz tam olarak kanıtlanmış değil.
ABD'nin çip endüstrisindeki en önemli darboğazlardan biri litografidir, zira yerli üretimin ASML'in araçlarına tam bağımlı olması durumu söz konusu. xLight ve Substrate gibi firmaların çip litografisi alanında bir atılım yapıp yapamayacağını görmek ilginç olacak. Her iki firma da kağıt üzerinde oldukça iyimser görünüyor.
