Çin'in önde gelen yarı iletken yöneticileri, Hollandalı litografi devi ASML'ye yerli bir alternatif geliştirmek için ulusal çapta birleşme çağrısı yaptı. Yöneticiler, ABD'nin uyguladığı ihracat kısıtlamaları karşısında ülkenin çip ekipman sanayisinin kendi başına bu engeli aşmak için "çok küçük, parçalanmış ve zayıf" kaldığını belirtti.
SMIC (Semiconductor Manufacturing International Corporation) kurucu ortağı Wang Yangyuan ile bellek devi YMTC (Yangtze Memory Technologies Corp.), çip ekipmanı üreticisi Naura ve EDA (elektronik tasarım otomasyonu) yazılım geliştiricisi Empyrean'ın liderlerinin ortaklaşa kaleme aldığı açıklamalarda, ABD'nin ihracat denetimlerinin Çin'in yarı iletken hedeflerini engellediği üç ana alan vurgulandı: elektronik tasarım otomasyonu yazılımları, silikon waferlar ve üretim ekipmanları. Özellikle, Çin'in henüz üretemediği 7 nanometre altı çiplerin üretimine olanak tanıyan EUV (aşırı ultraviyole) litografi teknolojisi büyük önem taşıyor.
Yöneticiler, industrinin "kuruntuları bırakıp mücadeleye hazırlanması" gerektiğini belirterek, parçalanmış kamu finansmanının kaynakları çok sayıda rakip projeye dağıttığını ve sonuç üretmediğini savundu.
Çin, şu anda 2026-2030 yıllarını kapsayacak 15. Beş Yıllık Planı'nı hazırlıyor. Bu planın litografi atılımları ve EDA araç geliştirme konularını ulusal hedefler olarak önceliklendirmesi bekleniyor. Yarı iletkenlere ayrılan yaklaşık 47,5 milyar dolarlık devlet destekli fonlardan Big Fund III, şimdiden litografi ve EDA alanlarına ASML ve Synopsys araçlarına alternatifler geliştirmek amacıyla yeni sermaye aktarmaya başlamış durumda.
Bu üst düzey yöneticilerden gelen dürüst itiraf, Çin medyasından gelen büyük ve cesur teknoloji iddialarının sıklığı göz önüne alındığında dikkate değer. Ancak bu durum, giderek daha belirgin hale gelen bir zorluğu da ortaya koyuyor. Çin'in en gelişmiş yerli DUV (derin ultraviyole) litografi sistemi, ASML'nin 2008'de geliştirdiği 32 nanometre sınıfı işlemler için tasarladığı Twinscan NXT:1950i ile teknik olarak karşılaştırılabilir durumda.
SMIC'in bu aracı 2027 yılına kadar 28 nanometre bir işlemde entegre etmeyi başarsa bile, 10 nanometre altı seviyelere ulaşmak için yeniden tasarlanmış tarayıcılara ve birkaç yıllık ek geliştirme süresine ihtiyaç duyulacak. Bir EUV makinesinin prototipinin Shenzhen'deki bir laboratuvarda tamamlandığı bildiriliyor, ancak EUV'nin ticari olarak uygulanabilirliği, ASML'nin kendi prototipinden sonra yaklaşık yirmi yıl süren verimlilik sorunlarının çözülmesini gerektiriyor.
Bunların yanı sıra, Wang Yangyuan'ın deyimiyle "sadece entegratör" olan ASML'nin birikmiş bilgi birikimi de göz ardı edilemez. Şirketin EUV teknolojisindeki hakimiyeti, 5.000'den fazla alt yükleniciden oluşan bir tedarik zincirine ve on yıllarca süren yüksek hacimli üretim verilerine dayanıyor. Tersine mühendislikle bu birikimin hızlıca kopyalanması mümkün değil. Çinli firmaların komşu ekipman kategorilerinde gerçek kazanımlar elde ettiği doğru olsa da – örneğin Naura, gelir bakımından dünyanın en iyi on yarı iletken ekipman satıcısından biri – litografi teknolojisi hala erişilmez bir alan olarak kalıyor.
