Teknoloji dünyasında heyecan yaratan bir gelişmeye göre, Çin'in gizli bir laboratuvarda EUV (Ekstrem Ultraviyole) litografi sisteminin bir prototipini sessizce kurduğu ve test ettiği bildiriliyor. Bu durum, ülkenin mevcut en gelişmiş teknolojiye yakın bir kopya üretmeye yaklaştığı anlamına gelebilir. Rapora göre, bu sistemin 2028 yılında prototip çipler üretmesi bekleniyor.
Bu iddiaların doğruluğu teyit edilirse, Çinli bilim insanlarının sadece birkaç yıl içinde, normalde onlarca yıl süren bir süreci aşarak çeşitli alanlarda önemli atılımlar gerçekleştirdiği anlamına gelir. Ancak daha detaylı incelemeler, laboratuvarın bu teknolojiyi tamamlama sürecinin henüz erken aşamalarında olduğunu ve ülkenin EUV litografi kullanarak çip üretimine geçmesinin yıllar alacağını gösteriyor.
Çin'in İddia Edilen EUV Tarayıcısı
Söz konusu sistemin, 2025'in başlarında Shenzhen'de yüksek güvenlikli bir tesiste tamamlandığı ve neredeyse tam bir fabrika katını kapladığı belirtiliyor. Çin yapımı makinenin, ASML'nin Twinscan NXE makinelerinde kullanılan lazerle üretilen plazma (LPP) yöntemini kullanarak 13.5 nm dalga boyunda EUV ışığı ürettiği rapor ediliyor. Bu durum, sistemin doğrudan tersine mühendislik yoluyla geliştirildiğini veya en azından ASML'nin öncülük ettiği teknolojilerin önemli bir kısmını içerdiğini düşündürüyor.
ASML'nin LPP yöntemi, vakum odasına saniyede yaklaşık 50.000 damlacık hızında enjekte edilen minik kalay damlacıklarını kullanır. Yüksek güçlü bir lazer, bu damlacıklara önce düşük yoğunluklu bir ön darbe göndererek disk şeklinde düzleştirir, ardından daha güçlü bir ana darbe ile bu düzleştirilmiş kalayı buharlaştırıp 200.000°C'nin üzerinde sıcaklıklara ulaşan süper ısıtılmış bir plazma oluşturur. Bu plazma, ardından litografi sisteminin yansıtıcı optiklerine yönlendirilir.
Raporlara göre, bu makine orijinalinden daha büyük olsa da, EUV radyasyonu üretebilmesi açısından işlevsel durumda. Ancak, hâlâ Twinscan NXE sistemlerinin 'hassas optik sistemlerini' kopyalamakta zorlandığı için kullanılabilir çip üretimine henüz ulaşamamış durumda. Ayrıca, EUV ışık kaynağının gücü hakkında henüz bir bilgi bulunmuyor ki bu, bir aracın seri üretim için kullanılıp kullanılamayacağını belirleyen kritik bir parametredir.
Şimdilik İşlevsel Değil
Rapor açıkça Çin'in EUV tarayıcısının şu anda çip üretimi için kullanılamayacağını belirtiyor. Ancak, Çin hükümetinin 2028 yılına kadar, yani iki veya üç yıl içinde ilk prototip çiplerin ortaya çıkmasını istediği bildiriliyor. Daha gerçekçi bir hedef ise 2030 yılı olarak görülüyor. Bu süreçte, Çinli ekibin mevcut durumu hakkında rapordan tam olarak net bir bilgi alınamıyor.
Raporda, optik sistemin hangi özel bileşenlerinin temel darboğazlar olduğu açıklanmıyor. Özellikle, yansıtıcı ayna sistemi, aydınlatma optikleri veya görüntüleme optikleri gibi kritik parçaların kopyalanmasında bir zorluk olup olmadığı belirsizliğini koruyor. ASML bu bileşenlerin geliştirilmesini ve üretimini Almanya'dan Carl Zeiss ile işbirliği içinde gerçekleştiriyor. Eğer geliştiriciler yansıtıcı aynaları bile kopyalayamadıysa, makinenin geri kalanının bir EUV litografi sistemi olarak adlandırılması zorlaşacaktır.
Gelişmiş litografi ekipmanlarından bahsederken, bu tür araçların karmaşık ışık kaynakları, ileri optikler, ultra hassas mekanik mühendislik, karmaşık kontrol yazılımları ve özel malzemelerin sorunsuz entegrasyonuna dayandığını unutmamak gerekir. Raporda, iddia edilen aracın mekanik sistemlerinin durumu hakkında herhangi bir bilgi bulunmuyor; çip üretiminde kritik rol oynayan wafer taşıma sistemleri veya retikül aşamaları hakkında bir açıklama yok.
Çin'in EUV çabalarını perspektife oturtmak gerekirse, gizli laboratuvarın henüz bir alfa aracı üretmeye bile yakın olmadığı anlaşılıyor. Şu an için, Çin laboratuvarının ürettiği şey, ASML'nin 2006'da yapabildiği gibi sadece ışık üzerine desen basabilmekten ibaret. Elbette, belirli bileşenlerin tersine mühendisliği Çinli mühendislere hız kazandırabilir, ancak bu hızlandırmanın ne kadar anlamlı olacağı henüz belirsizliğini koruyor.
Bir ASML Twinscan NXE'yi Tersine Mühendislik mi?
Raporun kaynaklarına göre, Çin'in EUV aracı, ASML'nin eski mühendislerini ve yeni üniversite mezunlarını içeren bir ekip tarafından geliştirilmiş ve şirketin EUV makinelerinin tersine mühendisliği yapıldığı iddia ediliyor. Gizli laboratuvarın o kadar gizli olduğu söyleniyor ki, çalışanlarına sahte kimlikler verilmiş.
Ancak, Çin'den mühendislerin bir EUV litografi tarayıcısını nasıl tersine mühendislik yapabileceğinin netliği belirsizliğini koruyor, zira Hollandalı şirket hiçbir zaman Çin'e bu tür bir makine tedarik etmedi ve Çin'den gelen personeli de AB'ye gönderilmesi yasak olan EUV sistemlerinin servisi konusunda eğitmedi.
100.000'den fazla parçadan oluşan bir makineyi tersine mühendislik yapmak, konuya hakim yüzlerce mühendis gerektiren zorlu bir görevdir. Bu nedenle, Çin hükümetinin önderliğindeki gizli kuruluş, sadece ASML Çin'in eski mühendislerini değil, aynı zamanda muhtemelen Avrupa, Tayvan ve ABD'den eski ASML çalışanlarını da işe almış durumda. Örneğin, daha önce ASML'de EUV ışık kaynağı teknolojisinden sorumlu olan Lin Nan, şu anda Çin Bilimler Akademisi'ne bağlı Şanghay Optik Enstitüsü'nde bir ekibi yönetiyor ve sadece 18 ayda sekiz EUV ile ilgili patent başvurusu yapmış durumda.
ASML'den yapılan açıklamada, "Şirketlerin teknolojimizi kopyalamak istemeleri mantıklıdır, ancak bunu yapmak küçük bir başarı değildir" denildi.
Rapora göre, yaklaşık 100 yeni üniversite mezunu, EUV ve DUV litografi araçlarından parçaların tersine mühendisliğini yapmakla görevlendirilmiş durumda. Her çalışma alanı, sökme ve yeniden birleştirme sürecini kaydeden özel bir kamera ile izleniyor ve başarılı bir şekilde parçaları yeniden birleştiren çalışanlar bonuslarla ödüllendiriliyor. Ancak yine de, bir Twinscan NXE aracı, sadece tüm parçaların bir toplamı değil, birbiriyle çalışan 100.000'den fazla parçadan oluşan bir mekanizmadır.
Özetle, Çin'in gizli bir prototip EUV litografi sistemi kurduğu ve test etmeye başladığı bildiriliyor. Bu, ülkenin mevcut en gelişmiş çip üretimi teknolojisini yeniden üretmeye daha yakın olabileceğini gösteriyor. Ancak raporun sunduğu detaylar, Çin'in hâlâ EUV litografiyi kullanarak çip üretimine geçmekten yıllar, hatta on yıllar uzakta olduğunu gösteriyor.
Makine, ASML tarafından kullanılan lazerle üretilen plazma (LPP) yöntemini kullanarak 13.5 nm EUV ışığı üretebiliyor. Bu, yerli alternatif yaklaşımların kullanımından ziyade, Batı teknolojisinin kapsamlı bir tersine mühendisliğini gösterebilir. Ancak, araç günümüzdeki ticari sistemlerden önemli ölçüde daha büyük, kullanılabilir çip üretemiyor ve özellikle Carl Zeiss tarafından ASML'ye tedarik edilen ultra hassas optikler gibi EUV litografinin diğer unsurlarıyla mücadele ediyor gibi görünüyor. Aslında, ışık kaynağı gücü, optik alt sistemin olgunluğu ve kritik mekanik bileşenlerin durumu gibi sistemle ilgili detaylar belirsizliğini koruyor.
Çin'in 2028'de ilk prototip EUV çiplerinin ortaya çıkmasını beklemesine rağmen, raporun kaynakları 2030'un daha gerçekçi olduğunu öne sürüyor. Ancak tüm bu çaba, eski ASML mühendislerini işe almaya ve mevcut EUV ve DUV araçlarından parçaların tersine mühendisliğini yapmaya büyük ölçüde dayanıyor. Bu parçalar sadece geliştirmesi zor olmakla kalmayıp, aynı zamanda üretmesi de son derece güçtür. Bu sırada, mevcut parçaları söküp yeniden birleştirmekten sorumlu ekibin, yüksek hacimlerde yarı iletken üretmek için 100.000'den fazla parçadan oluşan ultra karmaşık bir makineyi kusursuz bir şekilde çalıştırıp çalıştıramayacağı konusunda bir açıklama bulunmuyor.
