Çin'in yarı iletken üretim yetenekleri hızla ilerliyor gibi görünüyor. Yerli bir firma, ticari kullanıma yönelik ilk elektron ışını (e-beam) litografi aracını geliştirmeyi başardı.
Çin'in En Yeni Litografi Makinesi, Waferları Oyma İşlemi İçin Elektron Işınlarını Kullanıyor Ancak Tek Bir Üretim İçin Saatler Sürebiliyor
Litografi ekipmanları konusunda Çin, Batı'nın gerisinde kalmış durumda. Bunun temel nedeni, ülkenin yüksek teknoloji çipler geliştirmesi önündeki en büyük engel olan ASML'nin en gelişmiş ekipmanlarına erişiminin olmaması. Ancak, Çinli firmalar tarafından EUV ekipmanlarını piyasaya sürme yönünde çeşitli çabalar gösteriliyor. Bu sürecin zaman alacağı düşünülse de, Hangzhou'daki Zhejiang Üniversitesi'nden araştırmacıların elektron ışınlarını kullanan ilk litografi aracını geliştirdiği rapor ediliyor.
Makinenin Xizhi olarak adlandırıldığı ve ASML'nin High-NA ekipmanlarının standartlarından uzak olsa da bazı benzerlikler taşıdığı belirtiliyor. Elektron ışını litografi araçları (EBL) şu anda ABD'nin ihracat kontrolleri altında. Çin'in bu alandaki atılımı, yerli çip endüstrisi için büyük bir ivme anlamına geliyor. Ancak bazı kısıtlamalar da mevcut. Ekipman, 0.6nm hassasiyet rakamına sahip olsa da, bu ASML'nin High-NA EUV'sine yaklaşsa da, nokta nokta yazma yöntemi nedeniyle çıktıda önemli ölçüde geride kalıyor. Bu da bir wafer'ı işlemek için saatler sürebiliyor.
Çin, çoğu ana akım çipi için hala DUV makinelerine güveniyor. Çin yapımı EBL makinesi, Ar-Ge açığını Batılı rakipleriyle kapatmaya yardımcı olabilir. Bu, ülkenin en gelişmiş çiplerin prototiplerini üretmesine olanak tanıyabilir. Ancak seri üretime gelince, bu yöntem kesinlikle sürdürülebilir değil. Şüphesiz ki Çin, çip üretim yetenekleri konusunda ABD'den yıllarca geride olsa da, bu fark giderek kapanıyor. EBL'nin Çin'in çip hedeflerine nasıl katkıda bulunacağını görmek ilginç olacak.
